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    1. 鋁合金硬質(zhì)陽極氧化工藝優(yōu)選

      時(shí)間:2023-05-01 01:57:44 資料 我要投稿
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      鋁合金硬質(zhì)陽極氧化工藝優(yōu)選

      第29卷第3期2008年3月

      腐蝕與防護(hù)

      CORROSION&PROTECTION

      Vol.29 No.3March2008

      鋁合金硬質(zhì)陽極氧化工藝優(yōu)選

      趙建華,趙占西,李薇,李崢

      (河海大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院,江蘇常州213022)

      摘 要:利用正交試驗(yàn),6063鋁合金硬質(zhì)陽極氧化的優(yōu)化工藝。試驗(yàn)結(jié)果表明:氧化膜的硬度影響較大。較好的氧化工藝參數(shù)為:020℃,氧化時(shí)間75min。關(guān)鍵詞:正交試驗(yàn);硬質(zhì)陽極氧化;膜厚;中圖分類號:TG178   10052748X(2008)0320149203

      TofHardAnodicOxidationofAluminumAlloy6063

      ZHAOJian2hua,ZHAOZhan2xi,LIWei,LIZheng

      (CollegeofMechanicalandElectricalEngineering,HohaiUniversity,Changzhou213022,China)

      Abstract:Processparametersof6063aluminumalloyanodicoxidationwereoptimizedthroughorthogonaltest.

      Thecurrentdensityhadthegreatestimpactonthethicknessoftheoxidefilm,temperatureandcurrentdensityhadmoreimportantimpactonthehardnessoftheoxidefilm.

      Keywords:orthogonaltest;hardanodizing;filmthickness;hardness

      0 引 言

      鋁合金硬質(zhì)陽極氧化膜因其具有膜層厚、硬度高、抗腐蝕、耐高溫、高壓和優(yōu)良的耐磨性等特點(diǎn)而受到廣泛的重視。它特別適合于在各種惡劣環(huán)境下使用的高速運(yùn)轉(zhuǎn)的發(fā)動機(jī)活塞和航空、航天,光電子產(chǎn)業(yè),汽車工業(yè),海洋艦船,醫(yī)療衛(wèi)生等高科技尖端領(lǐng)域[1]。

      本工作采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化,通過正交試驗(yàn)對硬質(zhì)陽極氧化工藝參數(shù)影響氧化膜厚度、顯微硬度的情況進(jìn)行分析,得到了優(yōu)化的工藝參數(shù)并進(jìn)行了驗(yàn)證試驗(yàn)。

      表1 6063鋁合金的化學(xué)成分分析結(jié)果(%)

      Mg

      Si

      Fe

      Cu

      Mn0.10

      Cr

      Zn

      Ti

      Al

      0.45~0.900.20~0.600.350.100.100.100.10余量

      1.2 工藝及測試方法

      硬質(zhì)氧化工藝流程:化學(xué)除油→自來水沖洗→堿蝕→自來水沖洗→中和→自來水沖洗→硬質(zhì)陽極氧化→自來水沖洗→封孔。

      采用北京時(shí)代之峰科技有限公司生產(chǎn)的TT260覆層測厚儀測定膜厚。利用渦流法原理測

      量非磁性基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度(N型測頭)。每個(gè)試樣測量5個(gè)點(diǎn),去掉最大值和最小值后取平均值。使用HXD21000TC型顯微硬度計(jì)測定膜層的硬度。試樣按照金相試樣的要求磨平、拋光。測試載荷為100g,加載時(shí)間為15s,每個(gè)數(shù)據(jù)取膜層5個(gè)不同區(qū)域的測試值,去掉最大值和最小值后取

      1 試驗(yàn)部分

      1.1 材 料

      試驗(yàn)采用的電解液是含量為180g/L的硫酸。

      試驗(yàn)材料6063鋁合金,其成分見表1。試樣尺寸為50mm×60mm×2mm,有效氧化面積為60cm2。

      陽極氧化裝置:GBA200A/0-25V硅整流直流電源、PVC氧化槽、FSV22F制冷壓縮機(jī)、鈦絲掛具、壓縮空氣攪拌、鉛板陰極。

      收稿日期:2007207210;修訂日期:2007209208

      平均值。

      選擇氧化溫度、氧化時(shí)間和電流密度3個(gè)因素,

      每個(gè)因素取3個(gè)水平,采用L9(34)[2]正交表進(jìn)行試驗(yàn)設(shè)計(jì),研究不同工藝參數(shù)對氧化層厚度和顯微硬度的影響。試驗(yàn)因素水平見表2。

      ?149?

      趙建華等:鋁合金硬質(zhì)陽極氧化工藝優(yōu)選

      表2 正交試驗(yàn)因素水平表

      水平

      123

      氧化溫度,℃

      -202

      因素

      氧化時(shí)間,min

      607590

      電流密度,A/dm2

      2.03.0

      4.0

      2 試驗(yàn)結(jié)果及分析

      2.1 氧化溫度對膜厚和顯微硬度的影響

      氧化溫度對氧化膜厚度和顯微硬度的影響如圖1所示。隨著溫度的升高,能力增強(qiáng),故膜層厚度減小,降。,必要手段。。本試驗(yàn)在-2℃進(jìn)行氧化時(shí),膜層經(jīng)常出現(xiàn)細(xì)小裂紋,而在0℃時(shí)沒有裂紋,綜合考慮氧化溫度對膜層硬度與脆性的影響,氧化溫度以0℃為宜

      。

      圖圖3 電流密度對膜厚和顯微硬度的影響

      才能順利生長。增加電流密度有助于增大氧化膜生成的電化學(xué)反應(yīng)速度,從而促進(jìn)了氧化膜的增厚。

      隨著電流密度的升高,氧化膜硬度變大。這是因?yàn)樘岣唠娏髅芏仁寡趸ど伤俣燃涌?氧化時(shí)間縮短,膜層受到硫酸化學(xué)溶解的時(shí)間相應(yīng)減少,膜層硬度也隨之提高。但是若電流密度過高,則氧化

      圖1 氧化溫度對膜厚和顯微硬度的影響

      2.2 氧化時(shí)間對膜厚和顯微硬度的影響

      氧化時(shí)間對氧化膜厚度和顯微硬度的影響如圖

      2所示。氧化膜厚度隨氧化時(shí)間的延長而增厚,基本呈線性關(guān)系。但氧化時(shí)間過長,膜層粗糙、疏松且易脫落。氧化時(shí)間一般不超過90min[2]。當(dāng)氧化時(shí)間在60~75min之間時(shí),硬度呈上升趨勢。超過75min后,硬度又有所下降。這是由于隨著氧化時(shí)間的進(jìn)一步延長,氧化膜細(xì)孔內(nèi)溫度不斷提高,電解液對氧化膜的溶解作用加大,導(dǎo)致氧化膜的致密度降低,從而硬度下降。綜合氧化時(shí)間對膜厚和顯微硬度的影響,氧化時(shí)間以75min左右為宜。2.3 電流密度對膜厚和顯微硬度的影響

      電流密度對氧化膜厚度和顯微硬度的影響如圖3所示。由圖可知:隨著電流密度的升高,膜厚變大。因?yàn)檠趸ぴ陉枠O生成的同時(shí)又不斷被電解液溶解,只有當(dāng)氧化膜的生成速度大于溶解速度時(shí),

      氧化膜

      ?150?

      過程中的發(fā)熱量增大,又將加快氧化膜的溶解,同樣也會使膜層硬度降低,而且零件被燒蝕的可能也會增大[3]。綜合電流密度對膜厚和顯微硬度的影響,電流密度以4.0A/cm2為宜。2.4 綜合結(jié)果正交試驗(yàn)的結(jié)果及分析見表3,電流密度是影響膜厚最大的因素,氧化溫度、電流密度和溫度是影響膜層顯微硬度的重要因素。對三種因素對氧化膜厚度和顯微硬度影響的綜合分析可知,推薦工藝參數(shù)為:氧化溫度0℃,氧化時(shí)間75min,電流密度4.0A/dm2。

      按照上述優(yōu)化方案進(jìn)行硬質(zhì)氧化,在其它條件相同的情況下,測得氧化膜的厚度為53.5μm,顯微硬度為552.7HV,膜層較厚且硬度高,具有很好的綜合性能。

      3 結(jié) 論

      (1) 對6063鋁合金硬質(zhì)陽極氧化工藝的三個(gè)

      趙建華等:鋁合金硬質(zhì)陽極氧化工藝優(yōu)選

      表3 正交試驗(yàn)結(jié)果及分析

      試驗(yàn)

      123456789

      氧化溫度,℃

      111222333143.7124.1123.320.41471.41365.51235.7235.8

      氧化時(shí)間,min

      123123123116127.921309.51404.81358.395.3

      電流密度,A/dm2

      12323131298.8871.11277.01333.41462.2185.2

      膜厚μm

      30.445.867.534.851.537.850.830.641.9

      顯微硬度,HV

      455.8508.1507.5413.0514.0438.5440.7382.7主要因素進(jìn)行優(yōu)化,得出了最佳工藝參數(shù):氧化溫度0℃、氧化時(shí)間75min、電流密度4.0A/dm2,在此工藝條件下得到的硬質(zhì)氧化膜厚度為50μm左右,硬度為550HV左右,具有很好的綜合性能。

      (2)在溫度為-2~2℃、氧化時(shí)間為60~90min、電流密度為2.0~4.0dm2的范圍內(nèi),電流,溫度及電流密。

      :

      1

      ,楊家祥.鋁合金渦旋盤的硬質(zhì)陽極氧化處理

      膜T1

      厚T2 T3 R硬T′1度T′2 T′3 R′

      工藝研究[J].表面技術(shù),2005,34(3):46-47.

      [2] 蘇紀(jì)文,李琪敏.鋁及鋁合金硬質(zhì)陽極氧化[J].四川

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      [3] 王祝堂.鋁材及其表面處理手冊[M].江蘇:江蘇科

      學(xué)技術(shù)出版社,1992.

      (上接第148頁)

      現(xiàn)饅頭峰。Cr和SiC的衍射強(qiáng)度都很高,說明鍍層的主要成分是Cr和SiC。

      (2)鍍層形貌檢測 利用掃描電鏡對最佳工藝所得鍍層進(jìn)行形貌觀測,可以看到復(fù)合鍍層中SiC粉體沒有嚴(yán)重結(jié)團(tuán)現(xiàn)象,分散情況較好,見圖3。

      碳化硅粒度40μm;電鍍溫度45℃;電流密度30A/dm2。

      (3)經(jīng)對比檢測,證明采用最佳電鍍工藝獲得的鍍層,可以顯著提高彈簧鋼表面的硬度和耐磨性,延長其使用壽命。

      參考文獻(xiàn):

      [1] 胡耀紅,陳力格,劉建平.三價(jià)鉻鍍鉻工藝及其新型陽

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      3 結(jié) 論

      (1)采用在彈簧鋼表面預(yù)鍍銅工藝,解決了電

      鍍鉻中的電流效率低下而引起彈簧鋼表面復(fù)合鍍層

      結(jié)合強(qiáng)度不良的問題。

      (2)通過正交試驗(yàn),分析了電流密度、溫度以及碳化硅粒度和濃度對鍍層性能的影響,并最終得到彈簧鋼表面鉻基復(fù)合的最佳工藝:碳化硅35 g/L;

      ?151?

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